Centrale de Micro-NanoFabrication

La Centrale de Micro-NanoFabrication se répartit sur une surface globale de 600 m² de salles blanches (ISO8-ISO7-ISO5).

Elle rassemble l’ensemble des moyens de micro-nanofabrication et de métrologie associée pour structurer la matière (Si, SiC, III-V, Polymères) jusqu’à l’échelle sub-micronique, déposer des couches minces et fabriquer des microdispositifs fonctionnels démonstrateurs (composants discrets à l’unité ou par lots).

Présentation de la salle blanche de L’INL dans le bâtiment Irène Joliot Curie (Doua)

Présentation : Céline Chevalier (Ingénieure de Recherche NanoLyon)
Tournage et montage : Clément Merle et Simon Ducloux (ATENA-INSA)

Équipements technologiques d’élaboration

  • Dépôt chimique en phase vapeur (ALD : oxydes et métaux en couches minces <20nm, Parylene Deposition System)
  • Dépôt de couches minces d’oxydes et de métaux par pulvérisation cathodique (DC, DC pulsé et RF, mode confocal pour la co-pulvérisation) ou par évaporation (effet Joule et canon à  électrons)
  • Gravure sèche par plasmas réactifs (RIE, ICP, Plasma cleaner) et gravure électrochimique
  • Lithographie UV (aligneurs simple et double faces, 4 pouces), Laser (5 pouces – résolution 600 nm),  Nanoimprint (4 pouces – résolution 300 nm), Holographique @266 ou 406 nm (5 cm² – résolution 133 nm) et Electronique (MEB FEI 30 kV- RAITH Elphy plus, résolution 20 nm)
  • Dicer 6 pouces à commande numérique

Équipements de caractérisation

  • Microscopes optiques, Microscopes électroniques à balayage (MEB à Effet de champ)
  • Profilométrie mécanique, ellipsométrie

Personnel dédié

pictogramme CNRS
3
Ingénieurs de Recherche
pictogramme CNRS
4
Assistants Ingénieurs
pictogramme CNRS
2
Techniciens
/* */ //