Pôle Epitaxie
Hétérostructures à base de semiconducteurs et d’oxydes Nanostructures III-V
Le « Pôle Epitaxie » de la plateforme Nanolyon bénéficie depuis 2012 d’un équipement unique constitué de 3 réacteurs d’épitaxie par jets moléculaires (III-V, oxyde), d’un réacteur PECVD/ALD et d’un analyseur XPS connectés sous ultra-vide. Il prévoit pour le futur de poursuivre son développement par l’ajout d’un réacteur de dépôt par pulvérisation cathodique (off axis/confocal) pour la croissance des oxydes et leur intégration sur silicium et l’implémentation d’un nouveau manipulateur chauffant sur l’analyseur XPS en complément des expériences effectuées sur les grands instruments Synchrotons. Il pourra ainsi continuer à valoriser les développements réalisés par l’équipe « Matériaux Fonctionnels et Nanostructures » en enrichissant son offre d’hétérostructures et de nanostructures III-V pour la conception et la réalisation de composants photoniques ou photovoltaïques, mais également à développer son offre de templates d’oxydes épitaxiés sur Si (SrTiO3/Si(001), Gd2O3/Si(111), Al2O3/Si(111),…) ou GaAs (SrTiO3/GaAs(001)) pour l’intégration d’oxydes fonctionnels.
Contact : P. Regreny
Participants : R. Bachelet, G. St Girons, P. Regreny
Doctorants :
- F. Chancerel (2015-2018): « Microtechnologies (EPI Lift-Off) dédiées aux systèmes photovoltaïques à haute concentration (HCPV) de haute performance dans la filière InP. »
- Martina Zanetti (2020-2023) : « Microtechnologies génériques de décollement / report et recyclage du substrat pour fabriquer des dispositifs optoélectroniques : application aux imageurs infrarouges »
Projets (5 dernières années) :
– ANR 2015-2018 : PICSEL
– ERC C. Monat 2015-2018 : GRAPHICS
– ANR 2016-2020 DIAMWAFEL
– ANR 2016-2020 LILIT
– ANR 2018-2021 : PHOLDING
Collaborations :
CEA-Leti, C2N Palaiseau, IEMN-ISEN Lille, UMI-LN2 et Université de Sherbrooke (Canada), Université de Keio Yokohama (Japon), Université de Ghent (Belgique), IMEC (Belgique).
Collaborations internes INL avec l’ équipe ILUM.
