Acquisition d’un équipement de lithographie par nanoimpression en mode pas à pas (« Step and Repeat ») dans le cadre du projet FEDER CARAT 2020

Un quatrième équipement a été acquis, un bâti de nanoimprint pour une utilisation de type « Recherche et développement » de nanostructuration grande surface

En décembre 2020, l’INL-CNRS a acquis un bâti de lithographie par nanoimpression en mode pas à pas (« Step and Repeat ») SET NPS300 – Nano-Patterning Stepper. Son installation est prévue dans le nouveau bâtiment de l’INL en cours de construction sur le Site de la Doua.

 

Le système de lithographie disposera de 2 têtes d’impression (UV NIL@365 nm et Thermique-RT to 450°C) et permet la réplique de motifs structurés (sur des zones de 2 à 40 mm) sur un tampon soit en matériau transparent (PDMS ou verre ou autre plastique), soit en matériau opaque (silicium, métal ou autre) vers un substrat (du cm² jusqu’à la plaque de 200 mm de diamètre) enduit soit d’un matériau UV sensible, soit d’un matériau thermo sensible. L’équipement permet de répliquer les mêmes motifs d’un même moule plusieurs fois pas à pas (mode « Step and Repeat »). La réplication des motifs les plus petits sera possible pour des dimensions inférieures à 20nm et des raccordements de champ entre chaque impression les plus faibles possible ne dépassant pas 20µm dans les deux directions X et Y mps.

 

INL CNRS
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