Acquisition d’un bâti de pulvérisation cathodique UHV dans le cadre du projet FEDER CARAT 2020

Un troisième équipement a été acquis, pour un coût de 286 000 Euros HT, un bâti de sputtering pour une utilisation de type « Recherche et développement » multi-matériaux et multiprocédés

En juin 2020, l’INL-CNRS a acquis un bâti de dépôt par pulvérisation HV multicibles PVD-400SU – SPUTTERING de Vinci Technologies. Il sera installé à l’INL site ECL, courant du 1er semestre 2021.

Le système permet de réaliser des dépôts sous vide de couches minces simples ou bien d’empilements complexes sur des substrats 2 pouces par pulvérisation cathodique. Il est constitué d’une chambre dans laquelle sont positionnés un manipulateur porte substrat chauffant (800°C), 4 sources de pulvérisation cathodique en mode confocale et 2 sources en mode off-axis.
Souple d’utilisation et évolutif, le système permet des dépôts ou bien des co-dépôts de matériaux métalliques et/ou oxydes multiféroïques sans remise à l’air entre 2 phases de dépôts. Un groupe de pompage permet d’atteindre la gamme des bas 10-8 mbar.
Le réacteur sera couplé à un tunnel de transfert UHV via une enceinte de stockage UHV pour 4 portes substrats en lien avec les bâtis de croissance MBE (III-V et oxyde) et de caractérisation XPS.

INL CNRS