Offre de thèse – Contrat doctoral CNRS

Les techniques de micro-nanofabrication et notamment l’industrie des semi‐conducteurs font aujourd’hui largement appel à la lithographie. Cette technique utilise des résines photo-sensibles permettant le transfert d’une image vers un substrat. Après étalement de la résine sur le substrat, l’image est transférée par illumination dans la résine à travers un masque. Dans le cas des résines positives, la région exposée est soluble dans la solution de révélation, et inversement dans le cas des résines négatives. Le transfert de l’image sur le substrat se fait alors par gravure chimique par voie sèche ou humide de la couche active (substrat) à travers des fenêtres. A la fin du processus, la résine est enlevée.

Pour postuler : Développement d’une photorésine de lithographie écoresponsable : étude des interactions polysaccharides plasma

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