Offre de Post-doc en élaboration et caractérisations de films minces d’oxydes

Le premier objectif concernera la réalisation de condensateurs ferroélectriques de type MIM (Métal-Isolant-Métal) ou MIS (Métal-Isolant-Semiconducteur) à base de HfOx dopé par dépôt de type PVD (physical vapor deposition) et ALD (Atomic Layer Deposition). Plusieurs paramètres de dépôts seront explorés (nombre de cycles ALD, type de précurseurs, budget thermique, puissance, substrats, électrodes, etc.)
Pour plus d’information : Elaboration et caractérisations de films minces d’oxydes
Candidature possible jusqu’au 6 janvier 2023
Contact : Bertrand VILQUIN

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