A la Une          

Novembre 2016 : Nouvelles offres de Post-Doc (voir Page Emplois)


Septembre 2016: un nouveau laboratoire rejoint le GDR

(soit 3 entrées en 2016)

ICube: Laboratoire des Sciences de l'Ingénieur, de l'Informatique et de l'Imagerie, Equipe MACEPV, Strasbourg


  • Première Journée Nationale en Ellipsométrie - 8 décembre 2016 à Palaiseau

    En collaboration avec le Laboratoire de Chimie et Physique de l'Université de Lorraine, HORIBA Scientific a le plaisir de vous inviter à la première journée nationale en ellipsométrie spectroscopique, qui se tiendra le jeudi 8 décembre à Palaiseau (91).

    Cette journée sera consacrée à une revue générale de l'utilisation de l'ellipsométrie spectroscopique dans les domaines de l'énergie, des polymères, des semiconducteurs, des matériaux oxydes, de la biologie, des nanomatériaux et des nanoparticules. L'état de l'art en ellipsométrie sera également abordé.

     

    Présentateurs invités : Programme ici

  • Pr En Naciri, LCP, Université de Lorraine; Dr Etcheberry, Institut Lavoisier, Université de Versailles
  • Dr Soppera, Institut des sciences des matériaux, Mulhouse; Dr Tortai, CNRS, Université Grenoble Alpes
  • Dr Garcia-Caurel, LPICM, Ecole Polytechnique Palaiseau; Dr Aguié, INRA, Reims; Dr Ponsinet, CRPP, Bordeaux

Une session posters aura lieu en fin de journée avec un prix pour le meilleur d'entre eux ! Nous comptons sur votre participation. Pour diffusion: Journee_Nationale_en_Ellipsometrie_2016.pdf

Plus d’informations: http://www.horiba.com/ellipsometrie; Email : ellipsometry.jyfr@horiba.com

 

  • Ecole Thématique du GDR OXYFUN à Carry-Le-Rouet (25-30 Septembre 2016)

Le GDR OXYFUN, l'IM2NP et le CEMES organisent une Ecole thématique sur les caractérisations avancées des oxydes fonctionnels : la microscopie électronique en transmission, la sonde atomique tomographique, la diffraction de rayons X ainsi que la spectroscopie de photoélectrons.

Notre école a accueilli 45 participants académiques et industriels, avec une majorité de doctorants, jeunes chercheurs et ingénieurs, avec intervention de 15 Formateurs étaient issus des laboratoires du GDR

       Le site : http://www.im2np.fr/EcolethemOxyfun2016/index.html

 

  • Prochaines Journées du club EEA (Section électronique) à Marseille, 3-4 Novembre 2016

Les prochaines journées de la section électronique du club EEA se dérouleront à Marseille les 3 et 4 Novembre prochain et porteront sur les technologies Mémoires Emergentes et Memristors pour le traitement et le stockage de l'information.

Flyer ici

 

  • 2nde édition du Workshop RAFALD organisée à Chatou (78) les 14, 15 et 16 novembre 2016

La seconde édition du Workshop RAFALD (Réseau des Acteurs Français de l’ALD, Atomic Layer Deposition) aura lieu à Chatou (78) les 14, 15 et 16 novembre 2016.  Ce Workshop a pour but de fédérer les acteurs français du domaine à travers un réseau national dédié à cette technologie.

Plus d'informations sur le site web www.rafald.org, soumission abstract ouverte jusqu'au 15 septembre 

Ce workshop s’adresse à un public très large, et vise autant les acteurs industriels qu’académiques issus des mondes de la microélectronique, de l’énergie, du textile, de la biologie, des nanotechnologies ou encore de l’électronique organique. Seront les bienvenus à ce Workshop chercheurs, ingénieurs, techniciens, étudiants déjà impliqués dans la technologie ou désirant s’informer (une journée sera dédiée à des tutoriels donnés par des experts reconnus du domaine).

 L'inscription est ouverte, avec des tarifs préférentiels avant le 1er octobre, 120€ pour le tarif standard et 80€ pour les étudiants. Attention le nombre de places est volontairement limitée à 100 participants. 

 

  • 4th International School of Oxide Electronics (ISOE2017), Cargèse, France, from April 11 to April 21, 2017

As previous editions of ISOE, we aim to gather PhD students, postdocs and young researchers around international scientific experts for almost two weeks in the peaceful Cargèse Scientific Institute to build the future Oxide Electronics community.
More information on the website: https://sites.google.com/site/orgaisoe/home

 

 

Le GDR 3660 "Oxydes fonctionnels : du matériau au dispositif” (OXYFUN) a été créé au 1er Janvier 2014 pour une durée de 4 ans. Il couvre le domaine des oxydes fonctionnels, depuis le matériau jusqu’au dispositif.

Ce GDR regroupe environ 660 personnes, dont 460 chercheurs de 50 laboratoires académiques, environ 200 doctorants, une quinzaine de chercheurs du CEA-LETI et 8 industriels.
Le GDR 3660 est une Unité de l'INSIS et a pour Instituts secondaires l'INC et l'INP.



Pourquoi un GDR sur les oxydes fonctionnels ?

Les futures technologies de l’information devront bénéficier de l’intégration de matériaux très variés, parmi lesquels les oxydes fonctionnels qui permettent d’envisager un spectre large de composants et systèmes en réponse aux grands challenges sociétaux, technologiques ou économiques.
Les oxydes fonctionnels en couches minces, hétérostructures et nanostructures présentent une très grande variété de propriétés physiques. Il s’agit d’oxydes de métaux de transition, de métaux alcalino-terreux, de lanthanides ou de métaux pauvres  - composés binaires (HfO2, ZrO2, TiO2, Al2O3, Ta2O5, Y2O3, MgO, VOx, ZnO, NiO, MnOx etc…) ou composés de formulation ternaire ou supérieure (SrTiO3, BiFeO3, SrBi2Ta2O9, etc…) et de solutions solides de ces composés (Ba(Sr)TiO3, Hf(Y)O2…).
Les recherches sur les nouveaux diélectriques de grille à forte permittivité démarrées à la fin des années 1990s pour l’industrie CMOS ont joué un formidable rôle d’entraînement dans le domaine des oxydes fonctionnels. Ainsi, des applications complémentaires et/ou différenciées comme les nouveaux types de mémoires non volatiles (OxRAM) ou les structures à capacité élevée ont profité de ces études. En parallèle, les oxydes complexes (piézoélectriques, ferroélectriques, magnétiques, multiferroïques...) ouvrent également des champs nouveaux d'applications dans le domaine des micro-nanotechnologies pour l’intégration de fonctionnalités variées.
L’introduction de ces nouveaux matériaux et la miniaturisation continue des systèmes depuis plus de 50 ans conduisent à de nouveaux challenges en termes d’élaboration, de caractérisation, de compréhension des propriétés à une échelle micro ou nanométrique et de mise en œuvre dans les dispositifs. Ces défis sont pluri- et inter-disciplinaires ; ils font appel à la chimie, la physique, la science des matériaux, la technologie et l’ingénierie afin de pouvoir passer du matériau optimisé en termes de structure et de propriétés physiques au dispositif fonctionnel.

 

Rôle du GDR :

L’objectif principal de ce GDR est de rassembler et de créer des ponts entre les communautés impliquées dans la recherche sur les oxydes fonctionnels pour que le couplage entre les aspects i) matériaux (couches, hétérostructures,  nanostructures…), ii) propriétés structurales et physiques, iii)  nanotechnologies de l’intégration et finalement iv) propriétés des dispositifs, puisse être renforcé.
Un autre objectif du GDR est de mettre en lien les communautés académiques et industrielles, comprenant les grands acteurs de la microélectronique, des télécommunications, de l’aéronautique ou des matériaux ainsi que les start-up et PMEs du secteur.

 

Twitter